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  • text_半導体製造装置基礎(前工程)2章_露光装置概論.pdf(6.62 MB) 
  • text_半導体製造装置基礎(前工程)3章_成膜装置基礎.pdf(2.98 MB) 
  • text_半導体製造装置基礎(前工程)4章_CMP装置の特徴と近年の課題.pdf(6.39 MB) 
  • text_半導体製造装置基礎(前工程)5章_洗浄装置概論.pdf(11.14 MB) 
  • text_半導体製造装置基礎(前工程)6章_電子ビーム応用計測技術概論.pdf(7.53 MB) 
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この講座・セミナーは2025年10月21日 17時00分に販売終了しました。

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半導体製造装置基礎(前工程)(2025年10月24日開催)対面受講申込

■本日のスケジュール(多少前後する場合がございます。ご了承ください)

09:00〜 第1章:半導体産業・技術とエッチング装置概論(東京エレクトロン様)

11:00〜 第2章:露光装置概論(キヤノン様)

12:00〜13:00  昼休憩

13:00〜 第3章:成膜装置概論(日本ASM様)

14:00〜 第4章:CMP装置概論(荏原製作所様)

15:00〜 第5章:洗浄装置概論(SCREEN様)

16:00〜 第6章:電子ビーム応用計測技術概論(日立ハイテク様)

17:00〜 Q&A

17:30  終了予定


半導体デバイス製造に携わる装置・プロセスエンジニア向けに、装置開発・量産視点で市場環境・産業構造のレクチャー、求められる技術要素(メカ、エレキ、ソフト、プロセス)の概略説明。加えて装置・プロセス技術詳細を、各半導体製造装置メーカーより解説します。
本講座は(一社)日本半導体製造装置協会(SEAJ)会員企業によるコラボレーション講座です。


2025年10月24日 (金)
開催 半導体製造装置基礎(前工程)対面受講をご希望の方は、以下の内容をご確認後、上記のクレジットカード/コンビニ決済/銀行振込を選択し受講料をお支払いください。

オンライン受講をご希望の方は、「講座・セミナー等 申込」に戻って[オンライン受講]の「半導体製造装置基礎(前工程)」を選択してください。


講 師 一般社団法人 日本半導体製造装置協会(SEAJ)講師
講 座 半導体製造装置基礎(前工程) [対面受講]

開催日 2025年10月24日(金)9:00-17:30

開催形態ハイブリッド開催(対面+Zoom)

会 場 対面形式の会場:福岡市早良区百道浜 3-8-33 福岡システムLSI総合開発センター2階 講義室

              開始10分前までにお集まりください。

              昼 食:お弁当を持参いただくか、近くのTNC放送会館等の飲食店をご利用いただけます。

              駐車場:福岡システムLSI総合開発センターの駐車場はご利用になれません。

                  なるべく公共交通機関をご利用下さい。

      オンライン会場:Zoom 接続先はお申込完了後、上記画面に表示されます)

              開始5分前になりましたら、上記画面よりZoom にご参加ください。

受講料 税込5,500

       対面、オンラインは同価格です。

       ・お申込みには、「ふくおかIST e-learning」 への会員登録が必要です。

       ・お支払い後、当日の参加有無にかかわらず返金はいたしません。

       ・福岡県内中小企業の方には、受講料に対する補助制度があります。

       講座当日、全受講者にpdfテキスト配布(コピー、印刷不可。コメント追記可)、対面受講者には紙テキストも配布します。

        オンライン受講は2画面(画面拡張モード:Zoom画面とpdfテキスト画面)を推奨します。

        なおテキストの無断転載・複製等は禁止しています。

       ・特段の事情が発生した場合、やむを得ず中止又は延期する場合がございます。

申込期限】2025年10月21日 17:00

試験受験期限2025年11月24日 17:00

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