半導体製造プロセス概論（前編）～半導体物性とMOSトランジスタ～
半導体（n型、p型）とはどういうものか、またその性質を理解するのに必要なエネルギーバンド図とキャリア（電子・正孔）および固定電荷について学習し応用素子の概要を知り、特に半導体の主要デバイスであるMOSトランジスタの構造と特性について理解するための講座です。
本講座は、以下目次の0章、１章、２章の動画を視聴することができます。
３章半導体デバイス・プロセス技術概略、４章半導体の製造プロセスにつきましては別講座「半導体製造プロセス概論（後編）」にて視聴できます。
※講座テキストは、「関連ファイルダウンロード」からダウンロードできます（閲覧用パスワード付きPDFファイル）。
パスワードは、同じ場所に掲載の’’パスワード.pdf’’をご確認ください。
なお、ダウンロードした講座テキスト等を第三者に提供、また閲覧させることは禁じられています。
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【総動画時間】
約4時間
【受講対象・予備知識】
・半導体の基礎知識（半導体物性とMOSトランジスタ）を学びたい⽅。
・⾼校の物理・数学の知識を有する⽅。
【到達目標】
・半導体とはどういうものかを説明できる。
・半導体の主要デバイスであるMOSトランジスタの構造や特性を知る。
【学習環境】
テキスト
【内容】
第０章 イントロダクション
第１章 半導体物性と応用
１．半導体とは？
２．半導体中の電荷
３．エネルギーバンド図
４．キャリアの輸送
５．バイポーラ、モノポーラデバイス
６．半導体の応答とその応用素子
第２章 MOSトランジスタ
１．pn接合
２．金属-半導体接触
３．MOS構造
４．ゲート付きpn接合
５．MOSバイアス状態によるポテンシャル変化
６．MOSトランジスタの電流電圧特性
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